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熱電集團(tuán)發(fā)布最新一款用于半導(dǎo)體晶片分析的臺(tái)式傅立葉變換紅外光譜系統(tǒng) (2005-02-23)

發(fā)布時(shí)間:2007-12-04 作者: 來(lái)源:儀器信息網(wǎng) 瀏覽:1758
2月17日,美國(guó)熱電集團(tuán)最新推出了一款專(zhuān)用于半導(dǎo)體晶片分析的傅立葉變換紅外光譜系統(tǒng)??Nicolet ECO/RS,該系統(tǒng)采用了熱電集團(tuán)最新的傅立葉變換紅外光譜平臺(tái)??Nicolet 6700。 眾所周知,傅立葉變換紅外光譜技術(shù)對(duì)于半導(dǎo)體加工而言,是一種理想的檢測(cè)手段。而半導(dǎo)體加工無(wú)論是對(duì)于原材料還是工藝過(guò)程都有著嚴(yán)格的控制要求,需要能夠?qū)τ诩兌瘸^(guò)99.999%的材料進(jìn)行檢測(cè),并且檢測(cè)尺度主要是在納米級(jí)。而作為一種快速、無(wú)損的檢測(cè)技術(shù),傅立葉變換紅外光譜儀既可用于相關(guān)企業(yè)的質(zhì)檢實(shí)驗(yàn)室,也可用于現(xiàn)場(chǎng)以監(jiān)控生產(chǎn)過(guò)程中攙雜劑在硅片中的均一性。由于硅有非常好的紅外透過(guò)性,因此傅立葉變換紅外技術(shù)在此方面的應(yīng)用包括:針對(duì)外延生長(zhǎng)的晶體薄膜、微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)設(shè)備和絕緣硅(SOI)材料的厚度測(cè)量,硅晶體中間隙氧和取代碳含量的測(cè)定以及介電薄膜表征等。 此外,該型產(chǎn)品采用了熱電集團(tuán)新一代 ETC EverGlo 紅外源,在提供穩(wěn)定信號(hào)的同時(shí),極大延長(zhǎng)了紅外源的使用壽命。為了應(yīng)付以前難以處理的紅外樣品,還新增加了一個(gè) Turbo Mode 功能。敷金的光學(xué)器件和全新設(shè)計(jì)的光路系統(tǒng)則極大增強(qiáng)了光信號(hào)通量。
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