被國際上稱之為戰略工業的半導體和集成電路專用裝備制造業是支撐半導體和集成電路產業健康發展的基礎，是半導體和集成電路產業鏈中重要的一環，它融合了約50個學科的高新技術，是基礎研究和應用研究共同發展的產物和科學技術水平的集中表現，也是半導體生產工藝的高度物化。沒有強大的半導體和集成電路專用裝備的支撐，我們將不具備爭奪未來龐大信息產業市場的主動權。 　　亮點一：我國半導體設備產量下降的同時銷售額卻大增 　　隨著半導體設備市場的快速發展，我國從事半導體設備開發和生產的企業正在迅速增加，已從2002年的40個發展為2003年的接近60個(包括兼做單位)，其中主要單位20家左右。大部分單位從事前工序和后工序設備研制，材料制備設備、凈化設備、半導體專用工模具、檢測設備、試驗設備和半導體設備零部件也各有一些單位在研究和生產。一些國外企業已開始在中國設廠，為行業的發展注入了新的活力。 　　據對其中16家主要單位的統計，在半導體設備產量同比下降28.8%的同時，2003年半導體設備銷售額達到25361萬元(未包括凈化設備、試驗設備、半導體專用工模具、半導體設備零部件)，同比增長51.3%，說明我國半導體設備的技術檔次有了較大幅度的提升。如將凈化設備、試驗設備、半導體專用工模具、半導體設備零部件以及16家以外的半導體設備單位統計在內，我國半導體設備2003年的銷售額應在4億元以上。 　 2003年電子專用設備行業銷售收入前8名的單位中有7家都不同程度地從事半導體或凈化設備工作，其中江蘇蘇凈集團有限公司，北京七星華創電子股份有限公司仍然位居行業第一、二位。　　從銷售角度分析，國產半導體設備的服務方向雖仍以一些院校和研究所中的科研型集成電路生產線以及半導體分立器件、LED、太陽能電池、SAW、電力電子等其他應用半導體設備的領域為主，但部分材料制備設備(6英寸單晶爐、研磨機、拋光機)、后道工序設備(6英寸劃片機、塑封機、自動封裝系統、模具)以及6英寸前道工序中的擴散設備、快速熱處理設備、清洗設備等已逐步進入集成電路生產領域。 　　亮點二：國際合作全面開花 　　在國際合作方面，北京七星華創電子股份有限公司與法國合資成立的生產數字及模擬質量流量計的七星弗洛爾公司已正式開業；與美國AVIZA公司也已簽訂合作意向，共同開發8英寸立式擴散爐市場。 　　2003年10月，銅陵三佳(集團)有限責任公司和韓國豐山微電子株式會社共同出資組建的銅陵豐山三佳微電子有限公司正式開業，一期注冊資金2000萬美元，生產具有國際競爭力的“半導體集成電路引線框架”及“引線框架模具”，計劃2004年～2007年分兩期共投資7500萬美元，將成為中國引線框架和引線框架模具最大的生產基地。 　　青島旭光儀表設備有限公司與法國AET公司，經過多次商談達成了合作意向，擬在青島旭光生產國際先進水平的“電加熱元件”，并在此基礎上進一步合作生產相關的半導體設備。 亮點三：科研及重點項目進展順利 　　由中國電子科技集團公司第四十五研究所和四十八研究所、北京七星華創電子股份有限公司、國投南光有限公司、西北機器廠、西安電子科技大學等單位研制，中國電子科技集團公司第二十四研究所負責應用研究的國家重點攻關項目??6英寸、0.5微米集成電路芯片生產線關鍵設備共計14種、18臺套全部順利通過了鑒定和驗收，并已經在生產線投入使用。這14種設備包括電子束曝光機、分步重復投影曝光機、M-RIE金屬刻蝕設備、RIE介質刻蝕設備、IMD-CVD設備、LPCVD、大束流離子注入機、磁控濺射系統、氧化擴散系統、ECR-CVD、硅片勻膠顯影處理系統、石英管清洗機、硅片腐蝕清洗系統、旋轉沖洗甩干機等。其中突破重大關鍵技術152項，取得專利49項，培養和鍛煉專業技術人才189人。這是中國自行研制的第一條6英寸0.5微米的集成電路生產線，它的研制成功為縮小我國與國際先進水平的差距做出了貢獻，為振興電子專用裝備制造業奠定了良好的基礎。 　　國家高科技項目中的光刻機、離子注入機、刻蝕機、大直徑硅單晶爐項目等正在加緊進行。電子信息產業發展基金安排的8英寸快速熱處理設備、8英寸多工位硅片清洗腐蝕設備、8英寸硅片自動劃片機、集成電路自動封裝系統、VXI數模混合集成電路測試系統等，以及一部分企業自行安排的材料制備設備和后工序設備的研制也已進入尾聲。 　　信息產業部2001年度電子信息產業發展基金重點支持項目??8英寸立式擴散爐在北京七星華創電子股份有限公司微電子設備分公司研發成功并已進入設備調試階段。該設備填補了國內集成電路專用立式爐的空白，兼容性強，結構簡潔，配置先進。 　　在信息產業部2003年電子信息產業發展基金招標項目中，中國電子科技集團公司第四十八研究所的四元化合物材料生長用金屬有機化學汽相淀積(MOCVD)設備中標。這是繼該所承擔的由國家“863”計劃以及電子信息產業發展基金支持的GaN MOCVD之后的又一種用于InGaAlP、InGaAlAs等四元化合物材料生長的LED、LD生產線關鍵設備，將為我國LED及半導體照明領域的發展創造有利的條件。 中國電子科技集團公司第四十五研究所集成電路封裝關鍵專用設備高技術產業化示范工程項目和電子元器件專用設備二期建設兩項國家重點項目正在加緊進行中。 　　此外，由中國電子科技集團公司第四十五研究所研制的8英寸硅片半自動劃片機、全自動鍵合機，中國電子科技集團公司第四十八研究所研制的GaN MOCVD設備，北京創威納公司開發的ICP刻蝕機、臺階儀，北京京運通真空設備廠研制的8英寸單晶爐等一批新產品也都取得了重要進展。蘭州蘭新高科技產業發展股份有限公司自主開發研制的我國第一臺3英寸～4英寸硅片雙面拋光機，經用戶使用及信息產業部專用材料質量檢測中心測試，已達到國外公司同類產品的標準，在控制及設備整體運行精度等方面已達到國內領先水平。北京冠鵬凈化設備有限責任公司為中國酒泉衛星發射中心先后提供了20多臺該公司生產的LFL型風淋室，在“神舟”號飛船四次發射中，經受了考驗，受到了用戶的好評。中國電子科技集團公司第四十五研究所生產的內圓切片機和清洗甩干機分別出口到英國和新加坡，為該所半導體設備的出口提供了寶貴的經驗。 　　亮點四：產業發展良好環境正逐步形成 　　1994年以來，我國集成電路行業一直保持了高速發展的態勢，2003年我國集成電路總產量134.1億塊，同比增長39.3%；預計2005年我國集成電路總產量將達到200億塊，銷售額600億～800億元；預計2010年我國將成為全球第二大集成電路市場，2020年中國有可能成為全球最大的集成電路制造基地之一。中國集成電路的快速發展，帶動了我國半導體設備市場的快速增長。據國外市場調研公司統計，2003年中國半導體設備市場達到17億美元，占全球市場銷售額的5.2%。此外，由于我國半導體分立器件行業的快速發展，也將帶動國產半導體設備市場的較大增長。　　 　　但是，與我國快速發展的半導體和集成電路產業相比，國內半導體設備制造業的發展卻相對緩慢，新建的6英寸、8英寸集成電路制造廠幾乎都是從國外引進設備，無論在技術上還是在資金上都制約著我國集成電路產業的發展。我國半導體和集成電路產業發展的基礎仍然是非常脆弱的。　 　　2003年以來，關于發展我國“半導體和集成電路專用裝備制造業”的問題已分別被列入《國家中長期科學和技術發展規劃》和《“十一五”振興我國裝備制造業的途徑與對策》等項目中進行研究，反映了國家對此領域的高度重視；北京、上海、廣東、沈陽等地也分別將發展半導體和集成電路專用設備列為地區的發展重點；風華集團申報的裝備制造業基地項目已被廣東省列為裝備制造業重點技術改造項目，得到了廣東省的大力支持；沈陽芯源公司的半導體設備項目得到了沈陽市政府的高度重視……發展半導體設備的良好環境正在逐步形成。 　　另一方面，隨著電子基礎產品小型化、微型化的發展，半導體設備已越來越多地擴展應用到電力電子器件、MEMS、MOEMS、高頻頻率器件、TFT-LCD、LED(包括半導體照明)、PDP、VFD、太陽能電池、敏感器件、CCD、光纖通信器件、光盤、電子無源元件等領域，具有極強的產業帶動性。因此，為實現我國由信息產業大國向信息產業強國的轉變，應大力振興作為半導體和集成電路制造業基礎的專用裝備制造業。